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臺(tái)積電全面展開1.4nm工藝研發(fā)（臺(tái)積電4nm工藝最新消息）

更新時(shí)間：2023-12-14 11:44:06作者：佚名

臺(tái)積電全面展開1.4nm工藝研發(fā)（臺(tái)積電4nm工藝最新消息）

　　臺(tái)積電在近日舉辦的 IEEE 國際電子器件會(huì)議（IEDM）的小組研討會(huì)上透露，其 1.4nm 級工藝制程研發(fā)已經(jīng)全面展開。同時(shí)，臺(tái)積電重申，2nm 級制程將按計(jì)劃于 2025 年開始量產(chǎn)。

本文標(biāo)簽： 工藝  量產(chǎn)  積電